2022上海国际光刻设备与光掩膜应用技术展览会

Shanghai lithography equipment and photomask Application Technology Exhibition

〓 基本信息 〓

时间：2022年11月14-16日                地点：上海新国际博览中心

Time：November 14-16.2022       Venue:Shanghai New International Expo Centre

〓 展会前言 〓

微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。光刻技术从诞生以来,在半导体加工制造行业中,作为图形转移技术而广为应用。随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小以及器件功能的不断提高,半导体加工技术中最为关键的光刻技术和光刻工艺设备,必将发生显著的变化。

随着集成电路产业的发展，高端芯片的集成度达到了数千乃至数亿晶体管，推动芯片封装技术向更高密度、更高性能发展，在传统的接近/接触式光刻机日趋无法满足高性能、高密度、低成本的先进封装工艺发展需求的情况下，先进的大视场、大焦深、高精度投影光刻机逐步成为先进封装生产线的关键设备。“2022上海国际光刻设备与光掩膜应用技术展览会”将于11月14-16日在上海新国际博览中心隆重举办，欢迎广大相关单位参展、参观！

〓 展商受益 〓

1、 收集最新的高质量销售资讯，结识高质量买家并达成销售交易。

2、 了解未来生产需求发展全球战略。

3、 与全国代理、经销商构建销售网络。

4、 通过与各地生产商和买家的合作来发掘新的商业机会。

5、 加强公司品牌建设，提高公司的行业知名度。

6、 获得关于最新市场趋势、技术创新、行业最新发展动态以及的相关行业资讯。

〓 为何参展 〓

预计30,000余专业人次来自光刻设备全产业链的专业买家将莅临现场

预计面积达30000平方米，500余家行业企业同期展示，共赴行业盛会

35家合作机构组团参观

形式多样的配套会议及活动，涵盖组团参观、、论坛、访谈

全方位海内外渠道营销，线上与线下共同造势

超过300家行业媒体，提供全天候，一站式营销解决方案

稳固老客户，开拓新市场，发现新机遇

〓 目标观众 〓

邀请全国、省、市、各相关科研单位：电子、微电子、光电子、集成电路、半导体、微/纳电机系统、芯片制造、生物器件、纳米科技、平板显示、IC制造、光伏、航空航天、国防军工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太阳能、印刷、影像等制造业、大学、研究所、咨询机构和公共机构的专家代表等人员到会参观、洽谈。

〓 日程安排 〓

布展时间：2022年11月12- 13日          AM8:30-PM19:30

展览时间：2022年11月14日              AM9:30-PM16:45

          2022年11月15日              AM9:30-PM16:30

撤展时间：2022年11月16日            PM14:00-24:00

〓 参展范围 〓

◆曝光光源、光学系统、电系统、机械系统和控制系统等；

◆光刻机、光刻技术、步进投影光刻机、扫描投影光刻机、纳米光刻技术、无掩模光刻技术、沉浸式光刻技术、准分子激光光刻技术、极紫外光刻机、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、STM光刻、纳米压印光刻技术、微光刻技术、电子束曝光机、离子束曝光、3D 打印、刻蚀机、光刻机零部件、光刻前处理材料、曝光系统、光刻-掩模无机芯片与加工系统、光源与光刻胶、光刻胶原材料、光刻胶涂覆与处理设备等；

◆光掩膜、铬版、干版，凸版、液体凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜图形描绘设备、光掩模测试等；

〓 联系我们 〓

联系人Contact：李先生

手 机Mobile：150 0190 9485（同微信）

电 邮Email：sales1@ufiexpo.com 

◆曝光光源、光学系统、电系统、机械系统和控制系统等；

◆光刻机、光刻技术、步进投影光刻机、扫描投影光刻机、纳米光刻技术、无掩模光刻技术、沉浸式光刻技术、准分子激光光刻技术、极紫外光刻机、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、STM光刻、纳米压印光刻技术、微光刻技术、电子束曝光机、离子束曝光、3D 打印、刻蚀机、光刻机零部件、光刻前处理材料、曝光系统、光刻-掩模无机芯片与加工系统、光源与光刻胶、光刻胶原材料、光刻胶涂覆与处理设备等；

◆光掩膜、铬版、干版，凸版、液体凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜图形描绘设备、光掩模测试等；